小型蒸發(fā)鍍膜儀，實驗室氣相沉積設(shè)備用途

   用于真空蒸發(fā)鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜，主要用于蒸鍍電極及有機半導體材料的物理化學性能研究實驗研究 。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。

小型蒸發(fā)鍍膜儀，實驗室氣相沉積設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)         

真空腔室尺寸：Φ300*H400mm,預(yù)留膜厚儀接口304不銹鋼材料，圓柱式，門上配有觀察窗；  

真空系統(tǒng)： 分子泵 +直聯(lián)旋片泵+高真閥門； “一低一高"數(shù)顯復合真空計；

極限真空： 真空極限優(yōu)于 5×10-5Pa ；

溫度范圍： RT-600/1600℃，可調(diào)可控；

基片臺尺寸：最大可鍍基片尺寸/面積：Φ100mm 范圍內(nèi)可裝卡各種規(guī)格配 套相應(yīng)樣品架可固定各類不銹鋼掩膜板。

基片臺旋轉(zhuǎn):0-20 轉(zhuǎn)/分鐘，可調(diào)可控；

蒸發(fā)源及電源：水冷蒸發(fā)電極，金屬蒸發(fā)電源；

控制方式：PLC+觸摸屏,自動控制；

報警及保護：對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執(zhí)行相應(yīng)保護措施；完善的邏輯程序互鎖保護系統(tǒng)；

設(shè)備配電： AC220V/50HZ ,功率：3.5KW；

設(shè)備尺寸：長×寬×高:500*360*420mm；