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HMDS烘箱結構，HMDS涂布機原理
HMDS，即六甲基二硅胺，是半導體光刻工藝中一種常見的耗材。HMDS是一種易揮發(fā)的化學品，傳送到工藝腔的HMDS是以氣態(tài)形式存在的，其均勻附著在晶圓表面，形成HMDS膜層。
HMDS烘箱結構，HMDS涂布機原理
現(xiàn)有技術中，涂布過程一般先在氮氣的保護下對晶圓進行加熱，同時通入HMDS進行涂布，但由于前期氮氣的通入，為了保證HMDS的濃度及擴散效果，必須增加HMDS的通入量，才能使其濃度達到一定范圍，這樣勢必造成HMDS的浪費，且HMDS為有害氣體，過高濃度的排放會對環(huán)境造成嚴重破壞。
HMDS烘箱，HMDS涂布機技術參數(shù)
工作室尺寸 | 350×350×350、450×450×450、850×850×850（mm）可自定義 |
材質 | 外箱采用冷軋板噴塑或304不銹鋼，內箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼 |
溫度范圍 | RT+10-250℃ |
真空度 | ≤133pa（1torr） |
潔凈度 | class 100，設備采用無塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境 |
控制儀表 | 人機界面 |
擱板層數(shù) | 2層 |
HMDS控制 | 可控制HMDS藥夜添加量 |
真空泵 | 旋片式油泵（可選配進口無油泵） |
保護裝置 | HMDS低液位報警，HMDS自動添加，超溫保護，漏電保護，過熱保護等 |
